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日本Dry Chemicals采用新工艺将SiC晶圆制造成本降低30%

来源: 责编: 时间:2023-09-11 22:35:17 454观看
导读9月11日消息,据日刊工业新闻报道,近期,日本Dry Chemicals开发出一种新的工艺,能够将功率半导体材料碳化硅(SiC)晶圆的制造成本降低20-30%。该新工艺的要点是在晶锭上进行开槽,使晶圆切片更加平整,从而减少晶圆表面研磨、抛

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9月11日消息,据日刊工业新闻报道,近期,日本Dry Chemicals开发出一种新的工艺,能够将功率半导体材料碳化硅(SiC)晶圆的制造成本降低20-30%。1PX28资讯网——每日最新资讯28at.com


该新工艺的要点是在晶锭上进行开槽,使晶圆切片更加平整,从而减少晶圆表面研磨、抛光等后处理所需的步骤,只需要在切割后立即进行镜面研磨、化学机械抛光(CMP)、清洁和检查即可获得成品。1PX28资讯网——每日最新资讯28at.com


据悉,Dry Chemicals将于10月份开始晶圆代加工,并且对外销售制造设备,预计第一年销售5-10台。1PX28资讯网——每日最新资讯28at.com


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