中国半导体设备新秀新凯来引发行业热议

2021年8月成立的新凯来隶属于深圳市重大产业投资集团，该集团为深圳国资委全资子公司。这家新兴企业迅速崛起，推出涵盖曝光、薄膜沉积、蚀刻等核心工艺的数十款设备，并发布了28纳米12英寸晶圆曝光技术，引发业界高度关注。
新凯来的团队主要由来自ASML、应用材料（Applied Materials）、东京电子（TEL）和台积电等国际大厂的工程师组成，其研发和制造据点遍布多地。尽管成立仅4年，新凯来已展现出强大的技术能力，但其崛起也引发行业三大疑虑。
首先，业界担心新凯来的快速扩张可能与北方华创、中微半导体等形成竞争；其次，新凯来的产品被质疑存在模仿国内外同行的现象，其技术的原创性和实际性能尚待验证。最后，据知情人士透露，新凯来目前的主要客户仅限于青岛芯恩，市场覆盖范围有限。
新凯来公开表示，其产品线涵盖原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、蚀刻、退火等关键工艺设备，并在28纳米制程上具备与国际大厂竞争的能力。
部分业内人士指出，中国凭借庞大的内需市场和低成本优势，结合强大的“逆向工程”能力，未来有望在半导体领域找到突破口，只是时间问题。

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