全屏实力，硬核领跑。TCL 华星广州 t9 产线，是国内首条专门生产高端 IT 及专业显示产品的高世代产线。其产品均已搭载由 TCL 华星自主研发的 HFS 技术，并于 4 月实现量产。HFS 技术采用负性液晶加光配技术，搭配 H-HFS 全新像素结构设计，相对于传统技术在穿透率、对比度、功耗等方面具有明显优势。
近来，TCL 华星 HFS MNT 技术再次创新升级，在保证 HFS 技术低能耗的基础上，将对比度提升至 CR2000:1, 再上 MNT 显示“新高地”。
技术方案再创新，使对比度越级提升成为可能
相比于 TCL 华星以高对比、高曲率、高刷新、快响应 (简称“三高一快”) 优势驰骋电竞圈的 HVA 技术，同为华星自主研发的 HFS 则以优秀的视角与低能耗而闻名。在对比度方面，升级前的 HFS 技术足以满足大多数人的观看需求，但在与 HVA 技术相比较时，又大为不足。而且，随着电子竞技产业的飞速发展，游戏的多元化场景、道具、玩法、资源等呈现不断扩容与快速迭代的趋势，对作为视觉交互核心的显示产品对比度提出了更高要求。
为解决 HFS 技术在 MNT 领域的对比度提升难题，TCL 华星 t9 研发团队经过长期探索实践，提出穿透率提升技术方案，可有效提升亮态光效 10%—15% , 为 HFS MNT 技术对比度达到 2000:1 的跨越升级创造了条件。
液晶材料新设计，平衡高对比与低能耗关系
在实际应用中，高对比液晶材料需要通过提升 K 值和降低折射率来降低液晶材料的散射系数。而低散射高对比液晶材料会增大 LCD 的驱动电压，降低透过率，从而增大 OC 功耗和背光功耗，造成模组功耗增加。
在实际开发中，增加液晶材料的弹性系数 K、降低双折射率 Δn, 都能有效减少液晶对光的散射，进而提升对比度。但这样的低散射高对比液晶材料需要更大的驱动电压，还会使光透过率降低，从而导致了 OC 和背光功耗的增大。
所以，在 HFS 技术的跨越升级过程中，技术团队需解决提升对比度与保证低能耗之间的矛盾。t9 研发团队经过多次尝试，开发了新像素设计方案的同时，搭配低驱动电压的负性液晶材料，重构 HFS MNT 技术高对比与低能耗组合的核心优势。
t9 研发团队推出的穿透率提升技术方案，使高对比液晶在 4mask 工艺制程下，达成对比度提升的同时也可以实现高穿透率，将液晶 Vop 降低 1.0 V, 并可降低模组功耗 20%。再者，穿透率的提高意味着可以减少 DEBF 膜片，使产能和工艺成本进一步得到优化。
集高对比、低能耗于一身，HFS MNT 技术落地后，将为消费者带来超长续航、高效节能的全新体验。
坚守创新底色，矢志打造全球领先科技
创新是引领发展的第一动力。每一次技术的变革，都在影响社会文明的进步与发展。扎根于半导体显示行业的 TCL 华星，始终坚持创新底色，以迎难而上的姿态，在技术上精益求精，不断打造全球领先科技，点亮全球消费者的理想生活。此次规格提升的 HFS MNT 技术，将被逐渐纳入量产计划。创新科技赋能，未来显示更值得期待!
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