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三星计划2030年实现1000层NAND!使用长江存储专利技术

来源: 责编: 时间:2025-02-27 08:17:23 211观看
导读 快科技2月26日消息,随着NAND闪存技术竞争日益激烈,三星电子公布的路线图显示,计划到2030年开发出1000层的NAND闪存。为了实现这一目标,三星计划引入一种名为“多BV”(multi-BV)的NAND结构,通过堆叠四片

快科技2月26日消息,随着NAND闪存技术竞争日益激烈,三星电子公布的路线图显示,计划到2030年开发出1000层的NAND闪存。Qx728资讯网——每日最新资讯28at.com

为了实现这一目标,三星计划引入一种名为“多BV”(multi-BV)的NAND结构,通过堆叠四片晶圆来突破结构限制。Qx728资讯网——每日最新资讯28at.com

三星电子DS部门首席技术官宋在赫(Song Jae-hyuk)透露,三星将采用晶圆键合技术,分别制造外围晶圆和单元晶圆,然后将它们键合在一起形成单一的半导体,这种技术预计将在三星的V10(第10代)NAND中首次应用。Qx728资讯网——每日最新资讯28at.com

此前,三星在NAND生产中采用的是COP方法,即将外围电路放在一块晶圆上,然后将单元堆叠在上面,随着层数的增加,底层外围电路的压力会影响可靠性。Qx728资讯网——每日最新资讯28at.com

为了实现更高的层数,三星决定与长江存储合作,使用其混合键合专利技术,从V10 NAND开始,三星将引入这一技术。Qx728资讯网——每日最新资讯28at.com

据ZDNet报道,三星计划在2025年下半年开始量产V10 NAND,预计层数将达到420至430层。Qx728资讯网——每日最新资讯28at.com

除了晶圆键合技术外,三星还计划在未来的NAND生产中引入多种关键技术,包括低温刻蚀和钼的使用,这些技术将从400层NAND开始应用。Qx728资讯网——每日最新资讯28at.com

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